Spécifications techniques

Aperçu

Technologie de revêtement plasma avancée

Ce système de revêtement plasma est un dispositif sophistiqué conçu pour la modification de surface et le dépôt de couches minces de haute précision. En utilisant un jet de plasma à haute énergie, le système permet l'alimentation ciblée de poudres et de précurseurs pour créer des revêtements denses et compacts sans utilisation de solvants. Il est conçu pour une grande polyvalence, prenant en charge des applications en micro-couches et en nano-couches sur une grande variété de substrats.

Spécifications techniques

Types de revêtements pris en charge

Nettoyage et activation du substrat
Micro-couches (Zinc, Étain, Cuivre, etc.)
Nano-couches

Épaisseur de micro-couche: 500 μm
Épaisseur de nano-couche: 300 nm

Ensemble de buse du système de revêtement plasma et fonctionnement du jet de plasma — Le cœur du système comprend un ensemble de buse de précision pour l'alimentation ciblée de poudre et de précurseur dans le jet de plasma.

Capacités de processus

Mesures principales du processus

1 000 °C

Température du jet de plasma

Traitement à pression atmosphérique: Oui
Caractéristiques du revêtement: DenseCompactSans solvantHaute vitesse

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Système de revêtement plasma pour le dépôt de couches minces

Ce système de revêtement plasma est conçu pour appliquer des couches minces et des revêtements sur divers matériaux. Il utilise le plasma pour déposer des matériaux avec une adhérence exceptionnelle et un contrôle précis des propriétés du film.

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Système de revêtement plasma pour le dépôt de couches minces - Image 1

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